대규모 그래 준비를 위한 20 khz 3000w 초음파 분산 장비

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제품 세부 사항

20 khz 3000w 초음파 분산 장비에 대 한 큰 규모 그래 준비

액체 높은 농도, 고압 (압축) 그리고 주파수에 따라 속도와 저압 (희박) 사이클에 액체 미디어 결과에 전파 하는 음파에서 sonicating 때. 낮은 압력 사이클 동안 고 강도 초음파 액체에서 작은 진공 거품 또는 공백을 만듭니다. 때 거품이는 그들은 더 이상 에너지를 흡수할 수 없는 볼륨을 달성, 그들은 붕괴 심하게 높은 압력 사이클 동안. 이 현상은 공동 현상 이라고 불린다. 파열 매우 높은 온도 (약 5, 000 k) 및 압력 (약 2, 000atm) 로컬로 도달 된다. 공동 현상 거품의 파열은 최대 280 m/s 속도의 액체 제트기 발생합니다. 생성 된 초음파 공동 현상 프로세스에 적용 될 수 있는 화학 및 물리적 효과 발생 합니다.

그래 초음파 준비

흑연의 특별 한 특성부터, 그것의 준비를 위한 여러 가지 방법을 개발 되었습니다 알려져 있습니다. 옆에 그래 핀에서 graphenes의 화학 생산에 매우 강한 산화 하 고 감소 에이전트는 다단계 프로세스에서 산화물 필요 합니다. 또한, 그래 핀이 가혹한 화학 조건 하에서 수시로 준비 다른 방법에서 얻어진 graphenes에 비해 감소 후에 많은 양의 결함을 포함 되어 있습니다. 그러나, 초음파는 또한 대량에서 고품질 그래 핀을 생산 하는 입증 된 대안 이다. 연구원은 약간 다른 방법으로, 초음파를 사용 하 여 개발 했다 하지만 일반적으로 그래 핀 생산은 간단한 한 단계 과정. 특정 그래 핀 생산 루트의 예를 제공

: 흑연 희석 유기 산, 알코올, 및 물의 혼합물에 추가 되 고 다음 혼합 초음파 방사선에 노출 됩니다. 산 성 부모 흑연에서 그래 핀의 시트를 분리 하는 "분자 쐐기"로 작동 합니다. 이 간단한 과정으로 물에 분산 된 손상 되지 않은, 높은-품질 그래 핀의 대량 생성 됩니다.

혁신:


  1. T 캡 사용 교체, 도구 머리 현상의 문제를 해결, T 모자 정상 근무 시간 이상 800 시간.
  2. 고 출력 초음파 변환기 (1500w-3000w)를 사용 하 여 더 안정적인 성능, 정상적인 수명을 10000 시간 이상. 최상의 조건에서 항상 되도록 디지털 제어 전원의
  3. 사용 합니다.
  4. 아령 형 도구 헤드 디자인, 단위 면적 당 초음파 방사선 전력을 크게 향상.
  5. 통합된 배관 스테인리스 # 316의 했다.
  6. 전체 액체 흐름 제어
  7. 네트워크 기반 수-버스 기술을 사용 하 여, 모든 작업 매개 변수 실 원격 제어를 가질 수 있습니다.

설명:

그래 핀 탄소 원자의 단일 레이어 2 차원 평면 구조를 6 각형 벌집 격자에 밀접 하 게 줄로 구성 되어 있습니다 fullerenes, 탄소 나노튜브, 흑연의 기본 구조는 탄소 재료의 어머니 라고 그래서

소개 :

마이크로 기계 스트립: 기계 스트립 흑연 레이어, 고품질 그래 핀, 낮은 출력 및 비용, 높은

산업된 생산을 충족 시킬 수 없다.

화학 기상 증 착 (CVD): 가스 envirement 물질 반응 것입니다, 난방 고체 기판 (보통 니켈)의

표면에 증 착 솔리드를 생성, 그것은 넓은 지역에 고품질 그래 핀을 생산할 수 있기 때문에 비싼 기본 물자 (니켈)

가격, 그래서 또한 맞지 않는 산업화.

용 핫 플러그: 혼합 흑연 분말 및 intercalating 에이전트, 다음 품질 초음파 장비,

에 의해 처리 하는 것은 잘 하지만 수량 낮습니다.

산화 환 원 과정: 첫째의 전처리에 conver 흑연 산화물, meaningtime 흑연

산화물 층의 간격을 증가 시킬 것 이다, 흑연 다음 초음파 분산 프로세스에 의해 처리 흑연 산화물의 단일 레이어를 얻을. 다음 반응 감소

에 의해 싱글 레이어 그래.

ultrasonic machine

으로 흑연 산화물 감소의

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